ABSTRACT
Abstract Dental implants made of titanium (Ti) material is recognized as the leading treatment option for edentulous patients' rehabilitation, showing a high success rate and clinical longevity. However, dental implant surface acts as a platform for microbial adhesion and accumulation once exposed to the oral cavity. Biofilm formation on implant surfaces has been considered the main etiologic factor to induce inflammatory diseases, known as peri-implant mucositis and peri-implantitis; the latter being recognized as the key reason for late dental implant failure. Different factors, such as biofilm matrix production, source of carbohydrate exposure, and cross-kingdom interactions, have encouraged increased microbial accumulation on dental implants, leading to a microbiological community shift from a healthy to a pathogenic state, increasing inflammation and favoring tissue damage. These factors combined with the spatial organization of biofilms, reduced antimicrobial susceptibility, complex microbiological composition, and the irregular topography of implants hamper biofilm control and microbial killing. In spite of the well-known etiology, there is still no consensus regarding the best clinical protocol to control microbial accumulation on dental implant surfaces and treat peri-implant disease. In this sense, different coatings and Ti surface treatments have been proposed in order to reduce microbial loads and control polymicrobial infections on implantable devices. Therefore, this critical review aims to discuss the current evidence on biofilm accumulation on dental implants and central factors related to the pathogenesis process of implant-related infections. Moreover, the potential surface modifications with anti-biofilm properties for dental implant devices is discussed to shed light on further promising strategies to control peri-implantitis.
Resumo Implantes dentários em titânio (Ti) são reconhecidos como principal modalidade terapêutica para a reabilitação oral de pacientes edêntulos, demonstrando uma alta taxa de sucesso e longevidade clínica. No entanto, após inserção no ambiente bucal, os implantes dentários agem como substrato para adesão e acúmulo microbiano. A formação de biofilmes em implantes dentários tem sido considerada o principal fator etiológico para induzir doenças inflamatórias conhecidas como mucosite peri-implantar e peri-implantite, sendo está última reconhecida como principal razão para falha tardia dos implantes dentários. Diferentes fatores têm sido atribuídos por promover o acúmulo microbiano em implantes dentários, levando a uma mudança microbiológica e favorecendo o dano tecidual, como a matriz do biofilme, exposição a carboidratos e interação entre reinos. Esses fatores combinados com a organização espacial de biofilmes, reduzida suscetibilidade microbiana, complexa composição microbiológica e a superfície irregular dos implantes dificultam o controle do biofilme e a morte microbiana. Apesar da etiologia bem conhecida, ainda não há consenso sobre o melhor protocolo clínico para controlar o acúmulo microbiano nas superfícies dos implantes dentários e tratar a doença peri-implantar. Nesse sentido, diferentes coberturas e tratamentos de superfície no Ti têm sido desenvolvidos objetivando a redução dos níveis microbianos e o controle das infecções polimicrobianas em implantes. Portanto, essa revisão crítica objetiva discutir a atual evidência em relação ao acúmulo de biofilmes em implantes dentários e fatores chave relacionados ao processo patogênico das infecções peri-implantares. Além disso, o potencial de alterações de superfícies com propriedades antimicrobianas para implantes dentários é discutido para ressaltar futuras estratégias promissoras no controle da peri-implantite.
ABSTRACT
The aim of this study was to evaluate the efficacy of a pouring technique for implant-supported prostheses impressions. A metallic matrix (control group) with two implants positioned at 90 and 65 degrees was fabricated. The matrix was submitted to the direct transfer impression technique. In group CP (conventional pouring - n=10), casts were obtained by the conventional pouring technique. In group EP (experimental pouring - n=10), the analogs were embraced with latex tubes before the first pouring and then submitted to a second pouring. Vertical misfit and implants/analogs inclinations were evaluated. Data were analyzed by analysis of variance and Tukey's test (p<.05). Results demonstrated significant difference (p<.05) between control and experimental groups for misfit measurement in perpendicular implant/analog and between control group and group EP in leaning implant/analog. Considering inclination, there were significant differences (p<.05) between control and experimental groups for leaning analogs. Independently of the pouring technique, perpendicular implants produced more accurate casts.
O objetivo do estudo foi avaliar a eficacia de uma tecnica de vazamento para moldagens de proteses sobre implante. Uma matriz metalica (grupo controle) contendo dois implantes posicionados a 90° e 65° de inclinacao foi confeccionada. A matriz foi submetida a tecnica de moldagem de transferencia direta. No grupo CP (vazamento convencional - n=10), os modelos foram obtidos atraves da tecnica de vazamento convencional. No grupo EP (vazamento experimental - n=10), os analogos dos implantes foram revestidos por tubos de latex anteriormente ao primeiro vazamento e, entao, submetidos a um segundo vazamento. A desadaptacao vertical e a inclinacao dos implantes/analogos foram avaliadas. Os dados foram submetidos a Analise de Variancia e teste de Tukey (p<.05). Os resultados demonstraram diferenca significante (p<.05) entre os grupos controle e experimentais para a mensuracao da desadaptacao no implante/analogo perpendicular e entre os grupos controle e EP em relacao ao implante/analogo inclinado. Considerando a inclinacao, houve diferencas (p<.05) entre os grupos controle e experimentais em relacao a implante /analogos inclinados. Independentemente da tecnica de vazamento, implantes perpendiculares geraram modelos mais precisos.